一文了解何为FIB:电镜制样领域的“纳米级雕刻大师”

在电镜制样技术不断发展的今天,FIB(聚焦离子束)凭借其独特的优势,成为了科研人员日常实验进程中必不可少的“明星技术”。但对于不少刚接触这一领域的人来说,FIB还是一个比较陌生的概念。今天,我们就通过本文来了解一下,究竟什么是 FIB。

一、FIB的结构:聚焦离子束的“神秘面纱”

FIB,即聚焦离子束(Focused Ion Beam),是一种利用高能聚焦的离子束对材料进行加工、表征和分析的技术。它是建立在扫描电子显微镜(SEM)基础之上,结合离子束加工等探头的一种综合技术。

这些离子束通常来源于液态金属离子源(如镓离子源),经过加速、聚焦后,形成直径小至纳米级的高能离子束流。当离子束轰击样品表面时,会与样品原子发生相互作用,从而实现对样品的切割、刻蚀、沉积等一系列精细操作,就像一位技艺精湛的 “纳米级雕刻大师”,能在微观世界里完成各种复杂的“作品”。

二、FIB的工作原理:微观世界的“精准操控”

FIB的工作原理主要基于离子束与样品的相互作用。当高能离子束聚焦到样品表面时,会产生多种物理现象,其中最主要的是溅射效应和离子注入[2]

溅射效应是指离子束轰击样品表面时,将样品表面的原子或分子撞击出去,从而实现对样品的刻蚀和切割。通过控制离子束的能量、束流大小以及扫描方式等参数,可以精确控制刻蚀的速率和深度,实现纳米级的加工精度。

同时,在离子束的作用下,部分离子还会注入到样品表面,改变样品表面的化学成分和物理性能。这一特性也被广泛应用于材料的改性和器件的制备等领域。

三、FIB的应用领域:广泛而深入的 “跨界能手”

FIB技术凭借其高精度、高分辨率和多功能性,在多个领域都有着广泛的应用。

在半导体行业,FIB是芯片设计、制造和失效分析过程中不可或缺的工具。它可以对芯片进行精细的切割和刻蚀,用于制备芯片的截面样品,以便观察芯片内部的结构和缺陷,帮助工程师快速定位芯片失效的原因,提高芯片的生产质量和可靠性。

在材料科学领域,FIB能够制备高质量的透射电子显微镜(TEM)样品,为材料的微观结构表征提供有力支持。科研人员可以利用 FIB 对各种新型材料进行精确的加工和分析,深入研究材料的结构与性能之间的关系,为新材料的研发提供重要的实验依据。

在生物学领域,FIB的低损伤特性使其成为生物样品制备的理想选择。它可以对细胞、组织等生物样品进行精细的切割和加工,制备出适合电镜观察的超薄切片,有助于研究人员更深入地了解生物样品的微观结构和生理功能[3]

四、FIB 技术的优势:为何它能脱颖而出?

与传统的制样和加工技术相比,FIB具有诸多显著的优势。

首先是高精度,FIB能够实现纳米级的加工精度,可以对样品进行非常精细的操作,且可定位加工,满足各种微观结构研究和器件制备的需求。

其次是低损伤,由于离子束的能量可以精确控制,FIB对样品的损伤较小,能够最大程度地保留样品的原始结构和性能,确保后续分析结果的准确性。

再者是多功能性,FIB不仅可以进行刻蚀和切割,还可以进行材料的沉积、离子注入等操作,集多种功能于一身。

最后是适用范围广,FIB因其特性,可与很多表征设备进行联用表征,如Raman、TOF、AFM、PL等,其强大功能可以用来处理金属、陶瓷、半导体、生物材料等多种不同类型的材料,在各个领域都能发挥重要作用。

 

引用文献备注

[1] Annalena, Wolff. (2020). Focused ion beams: An overview of the technology and its capabilities. MicroscopyElectron and Ion Microscopy.

[2] Orloff, J., Swanson, L. W., & Utlaut, M. W. (1996). Focused ion beams: A historical review. Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, 14(4), 2889-2912.

[3] Giannuzzi, L. A., & Stevie, F. A. (2005). Practical focused ion beam microscopy. Springer Science & Business Media.

[4] Liu, Z., et al. (2019). Focused ion beam technology and applications in nanostructuring. Nanoscale Research Letters, 14(1), 1-16.